稀土抛光粉

由于是化学腐蚀与机械磨削相结合，其材料去除率远高于纯机械抛光的磨料。可以大幅缩短抛光时间，提高生产效率。
抛光精度高，表面质量好
能够获得极低的表面粗糙度（Ra值），无划痕、无塌边、无表面损伤层（亚表面损伤小）。
抛光后的表面光滑、均匀，具有极高的光洁度和面形精度。
使用寿命长
稀土抛光粉颗粒耐磨性好，在抛光过程中能保持较长时间的切削力，不易钝化，消耗量相对较少。

<p>适用性广虽然最初为玻璃抛光而开发，但现在已广泛应用于对表面平整度、光滑度要求极高的领域。</p> <p>主要抛光对象包括：</p> <p>显示玻璃：TFT-LCD液晶玻璃基板、OLED基板、盖板玻璃等。</p> <p>光学元件：相机镜头、望远镜、显微镜镜头、光学棱镜等。</p>